Elektrische verwarmingsbuis 6. Waarom moeten geplateerde onderdelen worden gereinigd met schoon water, van het verwijderen van chemische olie tot corrosie door zwak zuur?

Elektrische verwarmingsbuis 6. Waarom moeten geplateerde onderdelen worden gereinigd met schoon water, van het verwijderen van chemische olie tot corrosie door zwak zuur?

Antwoord: Omdat de gebruikelijke chemische ontvettingsoplossing alkalisch is, zal het, als de ontvettingsoplossing rechtstreeks in de zure corrosieoplossing wordt gebracht, een neutralisatiereactie tussen zuur en alkali op gang brengen, waardoor de concentratie en het effect van het zuur worden verminderd. Het product van de neutralisatiereactie hecht zich aan het werkstuk, wat de kwaliteit van de coating kan beïnvloeden. Daarom moet het werkstuk na chemische ontvetting worden schoongespoeld met schoon water voordat het de zure, corrosieve oplossing binnengaat.

7. Wat zijn de meest voorkomende oorzaken van bramen en grove deeltjes in de galvaniseerlaag? Hoe kunnen we ze oplossen?

Antwoord: Er verschijnen bramen en grove deeltjes op de coating, voornamelijk veroorzaakt door de verontreiniging van zwevende onzuiverheden in de galvaniseeroplossing. De bronnen zijn: stof in de lucht, slib van de anode en hydrolyseproducten van metaalonzuiverheden. Bovendien zijn er ook abnormale samenstelling van de plateeroplossing en onbevredigende bedrijfsomstandigheden. De oplossing is om de samenstelling van de plateeroplossing en de bedrijfsomstandigheden aan te passen. Als het wordt veroorzaakt door gesuspendeerde onzuiverheden, moet de plateeroplossing worden gefilterd.

8. Wat is de basisprocedure voor het bereiden van een galvaniseeroplossing

Antwoord: De basisprocedure voor het bereiden van een galvaniseeroplossing is als volgt:

(1) Doe eerst het benodigde galvaniseermedicijn met een goede hoeveelheid sap in de openingsgroef (kleine groef) en voeg dan een geschikte hoeveelheid water toe om het op te lossen. Pas op dat u het medicijn niet rechtstreeks in de plateergroef giet.

(2) De onzuiverheden in de oplossing kunnen op verschillende chemische manieren worden verwijderd en behandeld met actieve kool.

(3) De oplossing die is behandeld en is blijven staan ​​wordt gefiltreerd in een schoon plateerbad en water wordt toegevoegd tot de standaardhoeveelheid.

(4) Pas de specificaties van het plateerproces aan (pH-waarde, temperatuur, additieven, enz.).

(5) Gebruik ten slotte een lage stroomdichtheid voor elektrolytische afzetting om andere onzuiverheden van metaalionen te verwijderen totdat de oplossing geschikt is voor gebruik.

www.superbheater.com