Chemische vloeistoffen in de halfgeleiderindustrie: precisiereinigings- en etsmiddelen
Laat een bericht achter
De halfgeleiderindustrie is een van de breed gebruikte velden voor chemische dranken. Verschillende chemische dranken met een hoge zuiverheidsgraad spelen een cruciale rol bij het nauwkeurig reinigen en etsen in een bepaald stadium van het productieproces.
Ten eerste, het nut van chemische dranken in een bepaald stadium van het reinigingsproces. Halfgeleiderproductie omvat herhaalde reiniging van de wafervloer om diverse verontreinigingen af te weren. Chemische dranken, waaronder zeer zuiver ultrapuur water, zwavelzuur en waterstofperoxide, worden op grote schaal gebruikt in dit proces. Deze chemische dranken hebben een buitengewone oplosbaarheid en dispergeerbaarheid, die met succes onzuiverheden, waaronder vuil en staalionen, op de wafervloer kunnen afstoten, waardoor de reinheid van de wafervloer aan de gewenste normen voldoet.
Vervolgens is er het nut van chemische dranken in een bepaald stadium van het etsproces. Bij de productie van halfgeleidergadgets, inclusief opgenomen circuits, is het van vitaal belang om de dunne film op de wafervloer selectief te etsen om de gewenste monsterstructuur te vormen. Verschillende zure en alkalische oplossingen, natuurlijke oplosmiddelen en verschillende chemische dranken spelen een cruciale rol in dit proces. Ze kunnen zoals het hoort en op gecontroleerde wijze het doelweefsel afzetten zonder schade toe te brengen aan andere gebieden, waardoor wordt verzekerd dat de etseffecten voldoen aan de ontwerpvereisten.
Bovendien spelen chemische dranken ook een essentiële rol in volgende methoden, waaronder wafervloer-opknappen en dunne filmafzetting. Ze hoeven nu niet alleen te voldoen aan technische tekenen, waaronder zuiverheid en activiteit, maar moeten ook een verrassend eenvoudige omgeving garanderen om infectie van precisieproductiemethoden te voorkomen.
