Voordelen van vacuüm verzilveren met sterke compactheid
Laat een bericht achter
Voordelen van vacuüm verzilveren met sterke compactheid
Als gevolg hiervan is de magnetron-sputtercoatingapparatuur ontstaan, die de gecontroleerde sputter- en ionencoatingtechnologie integreert en een oplossing biedt om de kleurconsistentie en de stabiliteit van de afzettingssnelheid en de samenstelling van de verbinding te verbeteren. Volgens verschillende productvereisten kunnen verwarmingssystemen, biassystemen, ionisatiesystemen en andere apparaten worden geselecteerd. De verdeling van de doelpositie kan flexibel worden aangepast en de uniformiteit van de filmlaag is superieur. Uitgerust met verschillende doelmaterialen, kan het worden geplateerd met betere prestaties. samengestelde folie. De door de apparatuur geplateerde film heeft de voordelen van een sterke composietkracht en een sterke compactheid, die de zoutsproeiweerstand, slijtvastheid en oppervlaktehardheid van het product effectief kunnen verbeteren en voldoen aan de behoeften van hoogwaardige filmvoorbereiding.
De apparatuur is rijk aan toepasbare materialen en kan worden gebruikt voor roestvrijstalen watergeplateerde hardware/kunststof onderdelen, glas, keramiek en andere materialen. Deze serie apparatuur wordt voornamelijk gebruikt voor hardware-onderdelen van elektronische producten, high-end klokken, high-end sieraden en hardware-onderdelen van merklederwaren.
Hoge afzettingssnelheid van vacuüm zilvercontrole
Gecontroleerd sputterprincipe Elektronen botsen met argonatomen terwijl ze onder invloed van een elektrisch veld naar het substraat worden versneld, waarbij een groot aantal argonionen en elektronen wordt geïoniseerd, waarna de elektronen naar het substraat vliegen. De argonionen versnellen het bombardement van het doel onder invloed van het elektrische veld, waarbij een groot aantal doelatomen wordt gesputterd, en de neutrale doelatomen (of moleculen) worden afgezet op het substraat om een film te vormen. Onder invloed van de Lorentzkracht maakt de samengestelde vorm van helix en cycloïde een reeks cirkelvormige bewegingen op het doeloppervlak. Het elektron heeft niet alleen een lang bewegingspad, maar wordt ook uitgestraald door de elektromagnetische veldentheorie in het plasmagebied nabij het doeloppervlak. Binnenin wordt in dit gebied een grote hoeveelheid Ar geïoniseerd om het doelwit te bombarderen, dus de afzettingssnelheid die wordt geregeld door de apparatuur voor magnetische sputtercoating is hoog.
www.superbheater.com
